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论文名称：A 6.5 nm thick anti-ferroelectric HfAlOx film for energy storage devices with a high density of 63.7 J·cm−3

发表刊物：Journal of Physics D: Applied Physics

论文类型：Letter

学科门类：工学

一级学科：电子科学与技术

文献类型：J

是否译文：否

发表时间：2022-10-01

收录刊物：EI、SCI

发布时间：2024-03-07