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个人信息Personal Information
教授
性别：男
毕业院校：西安电子科技大学
学历：大学本科毕业
学位：大学本科毕业
在职信息：退休
所在单位：微电子学院
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Comparison of HfAlO, HfO2/Al2O3, and HfO2 on n-type GaAs using atomic layer deposition
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所属单位：微电子学院
论文名称：Comparison of HfAlO, HfO2/Al2O3, and HfO2 on n-type GaAs using atomic layer deposition
发表刊物：SUPERLATTICES AND MICROSTRUCTURES
第一作者：Lu, Bin^Lv, Hongliang^Zhang, Yuming^Zhang, Yimen^Liu, Chen
论文类型：Proceedings Paper
论文编号：SCI WOS:000390630200008
卷号：99
页面范围：54-57
ISSN号：0749-6036
是否译文：否
发表时间：2016-01-01
收录刊物：SCI