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个人信息Personal Information
副教授
性别:男
毕业院校:西安电子科技大学
学历:博士研究生毕业
学位:博士研究生毕业
在职信息:在岗
所在单位:微电子学院
学科:微电子学与固体电子学
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The influence of La/Al atomic ratio on the dielectric constant and band-gap of stack-gate La–Al–O/SiO<inf>2</inf>structure
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所属单位:微电子学院
论文名称:The influence of La/Al atomic ratio on the dielectric constant and band-gap of stack-gate La–Al–O/SiO<inf>2</inf>structure
发表刊物:Journal of Materials Science
第一作者:Wang, Shulong ; Liu, Hongxia ; Zhang, Hailin
论文编号:EI 20164603021938
卷号:28
期号:2
页面范围:2004-2008
是否译文:否
发表时间:2017-01-01
收录刊物:EI