李祥东
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李祥东,教授,博士生导师,国家级青年人才,省级高层次引进人才,西电郝跃院士课题组成员,2020年获比利时鲁汶大学(KU Leuven)欧洲微电子中心IMEC博士学位,先后师从第三代半导体领域知名学者张进成教授和 IEEE Fellow、IMEC Fellow Guido Groeseneken 教授。研究方向为模拟集成电路设计、功率器件设计与制造、可靠性和系统应用等,拥有多年第三代半导体 GaN 芯片量产技术开发经验,深度参与了 IMEC 全球首家商用级 8 英寸硅基氮化镓技术体系的开发,推动全球第三代半导体产学研合作发展。在IEEE系列顶刊以及IEDM,VLSI,ISPSD等顶会发表论文多篇。
欢迎推免、报考2026级博士、硕士研究生~
科研项目:
2021.12~2025.11: 国家重点研发计划“面向大数据中心应用的 8 英寸硅衬底上氮化镓基外延材料、功率电子器件及电源模块关键技术研究”之课题“Si 衬底上 GaN 基功率电子器件的可靠性提升技术及功率集成技术研究”,课题牵头人,390.6万,进行中。
2025年度学术论文(*为通讯作者):
1) L. Zhai, X. Li*, J. Ji, L. Yu, L. Chen, Y. Chen, H. Xia, Z. Han, J. Wang, X. Jiang, S. Yuan, T. Zhang, Y. Hao, and J. Zhang*, “Optimization of Low-Voltage p-GaN Gate HEMTs for High-Efficiency Secondary Power Conversion,” Micromachines, 2025, vol. 16, no.556, pp. 1-12, 2025.
2) Z. Han, X. Li*, J. Ji, Q. Li, Y. Zhang, L. Zhai, H. Wang, J. Chang, S. You, Z. Liu, Y. Hao, and J. Zhang*, “MIS p-GaN Tunneling Gate HEMTs on 6-In Si: A Novel Approach to Enhance Gate Reliability,” IEEE Trans. on Electron Devices, vol. 72, no. 3, pp. 1060–1065, Mar. 2025.
3) Z. Cheng, X. Li*, J. Ji, L. Yu, T. Zhang, H. Wang, X. Jiang, S. Yuan, S. You, J. Chang, Y. Hao, and J. Zhang*, “High-Performance MIM/p-GaN Gate HEMTs with A 3-nm Insulator for Power Conversion,” IEEE Electron Device Lett., vol. 46, no. 3, pp. 460-463, Mar. 2025.
4) Z. Han, X. Li*, J. Ji, T. Zhang, X. Jiang, S. Yuan, Y. Chen, H. Xia, C. Li, L. Chen, Y. Hao, and J. Zhang, “Balancing Threshold Voltage and On-Resistance of p-GaN Gate HEMTs via Mg Doping Engineering,” IEEE Trans. on Electron Devices, vol. 72, no. 10, 2025.
邮箱 :
通讯/办公地址 :
邮编 :
[1]
2009.08 -- 2013.07
西安电子科技大学
微电子学与固体电子学
大学本科毕业
理学学士学位
[2]
2013.08 -- 2015.12
西安电子科技大学
微电子学与固体电子学
研究生(硕士)毕业
工学硕士学位
[3]
2016.02 -- 2020.11
比利时鲁汶大学(KU Leuven)
电气工程
博士研究生毕业
哲学博士学位
[1]
2021.04 -- 至今
广州第三代半导体创新中心
副主任
[2]
2021.03 -- 至今
西安电子科技大学广州研究院
副教授、教授
[3]
2016.02 -- 2020.11
欧洲微电子中心
PMST
Ph.D researcher